本事業ではプラズマ溶射において、溶射材料の投入方法を高熱フレームの後方から中心軸に投入するアキシャルフィード式にする課題をクリアし、高機能な被膜と成膜コストの半減を実現する。
本開発装置の特徴
①付着効率95%～100%、②平均粒径10μmの材料が使用可、③材料の滞留時間が長く最高温度が低い、 ④材料供給機の内圧が低い（0.2MPa↓）、⑤２種材料の均一な混合可。比率変更が溶射中に可能、⑥セラミック溶射において水素ガス不要、⑦材料噴出部を電極として使用しない、⑧溶射材料を均一に加熱、⑨材料をプラズマアークに直接投入、⑩プラズマガスの２／３を圧縮空気に置換可。
